沉积薄膜质量高 ，低应力、高靠得住性 ，膜层不易开裂 ，附着性较好
蝶形管路布局与热壁式腔体 ，精准控温 ，低温沉积不危险0LED有机发光资料
差距化凹孔径散布搭配五阶孔结构 ，空心阴极效应提升膜厚均匀性,膜层厚度纳米级可控
多轴协同CCD实现掩膜板微米级自对位 ，精准锁定成膜区 ，保险工艺沉复性
设备运行不变、沉积速度可控 ，适配大规模批量出产 ，良率更高
支持多腔体物流配置 ，部门？榈鞫榷越庸こIM ，原设备刷新升级优化
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项目 Item |
SiO | SiON | SiN |
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基板尺寸 Substrate Size |
G3.5~G8.6 | G3.5~G8.6 | G3.5~G8.6 |
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温度领域 Temperature Range |
60~120℃ | 60~120℃ | 60~120℃ |
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温度均一性 Temperature Uniformity |
±2℃ | ±2℃ | ±2℃ |
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片内均一性 Intra-chip Uniformity |
≤5% | ≤5% | ≤5% |
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片间均一性 Inter-slide Uniformity |
≤3% | ≤3% | ≤3% |
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镀膜速度 Coating Rate |
≥2000?/min | ≥2500?/min | ≥2800?/min |
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折射率 Refractive Rate |
1.43~1.50 | 1.67~1.77 | 1.8~2.20 |
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透光率（380~780nm） Light Transmittance |
≥95% | ≥90% | ≥90% |
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